Inprentus光栅
同步加速器和FEL光栅；光谱衍射光栅；母光栅
Inprentus光栅
Inprentus 设计，制造和销售用于同步加速器辐射设施的 X 射线和 EUV 衍射光栅。
Inprentus 由伊利诺伊大学厄本那 – 香槟分校物理学教授 Peter Abbamonte 于 2012 年 6月成立，旨在将一种创新的双原子显微镜划片技术商业化，该技术是一种通过对金属表面进行机械变形来进行纳米级光刻的技术。这项技术是对表面进行高精度图案化的通用方法，并且特别适用于 x 射线和 EUV 衍射光学器件，在这些光学器件中，特征必须以 0.1 度的角精度进行整形，并且必须在数十厘米的距离上以纳米精度进行定位。
Inprentus 衍射光栅也非常适合光栅复制市场，在该市场中，母光栅是通过模制工艺复制的。这些光栅出售给光谱仪制造商，并用于各种科学和分析仪器中。Inprentus 还提供用于制造和科学研究的高功率激光器的定制光栅。
Inprentus 衍射光栅也可以用于改善电信光交换组件的规格。
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光谱衍射光栅 |
用于 FEL 应用的 VLS 衍射光栅 |
用于同步加速器应用的 VLS 衍射光栅 |
| 常规规格：
■ 闪耀角变化从 0.1°到 80° ■ 可变栅距（VLS） ■ 中阶梯光栅 ■ 在弯曲基材上刻划 – 凹面、环面、椭圆面 ■ 分辨力可达 100000（取决于其他相关参数） ■ 可提供高损伤阈值基材和镀膜 ■ 尺寸最大可达 500 x 200 mm ■ 刻线数可达 50-3000 l/mm ■ 带有硅或熔融石英基片的镀金裁切面 |
常规规格：
■ 用于光束线诊断的衍射光栅 ■ 超低闪耀角度，提高效率 ■ 提供仿真服务，以可靠地预测光束线内光栅效率 ■ 适用波段： X-ray 或紫外波段 ■ 分辨力（λ/δλ）： 可高达 50000 ■ 闪耀角可低至 0.1° ■ 刻线密度可低于 100 或高于 2000 ■ 基材： 平面或曲面，单晶硅或熔融石英 ■ 尺寸可达 500 x 200mm ■ 镀膜：Ti 或 Cr 粘合层或 Au 刻划层 ■ 保护层：Ni, B 4 C, Pt, etc. available through contracting of 3rd party vendors
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常规规格：
■ 用于光束线诊断的衍射光栅 ■ 超低闪耀角度，提高效率 ■ 提供仿真服务，以可靠地预测光束线内光栅效率 ■ 适用波段： X-ray 或紫外波段 ■ 分辨力（λ/δλ）： 可高达 50000 ■ 闪耀角可低至 0.1° ■ 刻线密度可低于 100 或高于 2000 ■ 基材： 平面或曲面，单晶硅或熔融石英 ■ 尺寸可达 500 x 200mm ■ 镀膜：Ti 或 Cr 粘合层或 Au 刻划层 ■ 保护层：Ni, B 4 C, Pt, etc. available through contracting of 3rd party vendors |
典型应用
| 同步辐射 | Inprentus 为全球同步加速器提供适用于软 X 射线应用的高效率 VLS 衍射光栅、VLS 闪耀光栅
-Inprentus 制造闪耀衍射光栅，在全球越来越多的同步加速器和自由电子激光设备中使用。这些是大型政府研究机构，研究科学家在其中使用分光计和单色仪中的衍射光栅。他们使用红外，紫外线和 X 射线辐射来研究材料，药物，环境科学，物理学和生命科学的特性，从而推动了众多大型工业的核心研究。Inprentus 的关键创新是精密运动控制，材料处理，软件，计量技术和无尘室环境控制的独特结合，这些结合在一起便能够为同步加速器市场打造超高精度衍射光栅。 |
| 自由电子激光器（FEL） | 低闪耀角高效闪耀光栅 -Inprentus 光栅需要其 X 射线衍射规格。FEL设施的数量正在增长，全球范围内有 20 处运营机构和 13 处开发中机构。Inprentus 当前的产品规格可以满足该市场对高效衍射光栅的需求。 |
| 大功率激光器 | 脉冲压缩器光栅 -Inprentus 衍射光栅非常适合大功率激光器中的脉冲压缩。Inprentus 光栅具有很高的损伤阈值，可以在各种基材上制造。 |
| 工业紫外线激光器 | 工业应用 -Inprentus 提供用于先进制造工艺的超快脉冲工业激光器，以及用于半导体制造设备的高闪耀角激光光刻衍射光栅。 |
| OEM 市场的母光栅 | 用于 UV / Vis / IR 光谱仪的母光栅 -Inprentus 可以提供高质量的定制母光栅，从中可以批量生产复制光栅，以用于各种光谱仪。 |
| 天文学与太阳科学 | 光谱仪光栅 – 由于产品的高线密度和低粗糙度特性，Inprentus 衍射光栅是天文观测仪器的理想选择。 |
衍射光栅的革命
High Efficiency • High Line Density • Low Blaze Angle • Multiple Coating Options • Grating Sizes to 500mm
Inprentus开发了一种新的方法，用于制造适用于同步辐射、FEL和激光应用的机械刻划的闪耀衍射光栅机，提供高分辨能力，闪耀角低于1度的产品。这些新的衍射光栅产品为科学界提供了应用于光谱仪、单色仪和激光仪器的无与伦比的能力。
同步辐射应用的VLS衍射光栅
高效率的机械刻划VLS闪耀衍射光栅
- 用于可靠预测光束内光栅效率的模拟服务
- 每毫米数千线的线密度
- 可变线距(VLS)
- 闪耀角低至0.1度
- 长达500毫米的大型光栅
- 广泛的光学设计能力
Inprentus使用纳米级的接触模式光刻技术，即一种控制金属表面机械变形的方法，生产用于X射线和紫外线应用的闪耀衍射光栅。 这项技术特别适用于X射线和紫外线衍射光学，其特征必须以0.1度的精度塑造，并在几十厘米的距离内以纳米精度定位。
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Blaze FacetsInprentus can create blaze angles below 1.0° with line densities from 50 to over 5000 lines per milimeter. |
SimulationsInprentus simulation services are available with all grating purchases and provide reliable predictions of in-beamline grating efficiency. |
RIXS at LBNLResonant Inelastic X-ray Scattering (RIXS) data from Beamline 8.0.1 at the Advanced Light Source at Lawrence Berkeley National Laboratory. |
用于FEL的VLS衍射光栅
- 用于光束线诊断的衍射光栅
- 超低的炽热角，提高了效率
- 用于可靠预测光束线内光栅效率的模拟服务
Inprentus使用纳米级的接触模式光刻技术，即一种控制金属表面机械变形的方法，生产用于X射线和紫外线应用的闪耀衍射光栅。 这项技术特别适用于X射线和紫外线衍射光学，其特征必须以0.1度的精度塑造，并在几十厘米的距离内以纳米精度定位。
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Blaze Angle ProfilesUltra low blaze angles improve efficiency and can be manufactured by Inprentus. A single unsmoothed AFM trace of a 50 lines/mm grating with a blaze angle of 0.1° |
Diagnostic GratingsDiagnostic gratings can be custom designed to meet the needs of any FEL application. Using the spectral reflection of the coated grating and zeroith order diffraction of the grating, the majority of photons may be passed downstream to the beamlines, with a small fraction being directed into a spectrometer for in-situ diagnostics of each pulse train generated by the laser. |
用于光谱学的衍射光栅
Inprentus提供定制的闪耀型衍射光栅母版，用于光学效率优先的光谱学应用。
现代化的衍射光栅机械刻划方法
传统上，制造产量低限制了行业的发展，导致光栅交付周期长。Inprentus方法彻底改变了闪耀光栅生产的核心制造工艺，为行业提供了一个宝贵的高精度产品的新来源。这种新方法为各种光学衍射应用的关键规格提供了改进。这些改进的规格包括光学带宽分辨率和光学效率的提高。
从设计到交付：在整个过程中与您合作
Inprentus将与您一起设计和计算模拟规格，并协助您进行光栅设计。Inprentus的母版光栅在销售时具有复制权，可用于贵公司的产品。
用于ICP-OES的母光栅
Inprentus有能力制造Echelle光栅，专门针对高闪耀效率进行优化。这些光栅可用于从紫外到红外的一系列波长，并有多种尺寸和规格。母光栅可按原样使用或在尖端光谱学应用中进一步复制。Inprentus与客户紧密合作，在光栅母版中提供定制的闪耀角度，以实现最佳的终端复制效率。
