用于显微研究的光学低温恒温器

Andor Microstat系列低温恒温器给用户提供了各类光路设计和光学性能特点的低温样品环境。制冷方式为真空冷媒冷却，可根据温度需求选择液氮或者液氦制冷，温度范围从低于2.2K至500K。 Microstat 系列是市场上有效，性价比较高的显微低温恒温器之一。所有型号均可置于光学屏提上，其窗口都可朝向任意方向，也能与通用显微镜进行集成。

目录: 低温恒温器

低的使用成本- 液氦消耗计算器
良好的隔振稳定选项
触摸式控制器，丰富的扩展功能
用户可升级窗口以及控制器通道

液氮/液氦低温恒温器系列

MicrostatN

开环液氮低温恒温器（消耗液氮）
20x2mm样品空间
可容纳固体，粉末和颗粒样品
4根直流电学引线至样品
冷却时间<10分钟
低运行成本

MicrostatHe

开环液氦低温恒温器（消耗液氦）
20x5mm样品空间
真空样品腔
10根直流电学引线至样品
温度范围2.2K至500K
冷却时间<10分钟

MicrostatHiRes

开环液氦低温恒温器（消耗液氦）
20x5mm低振动样品空间
可变样品至光学窗口工作距离
温度范围2.2K至500K
冷却时间小于15分钟

Microstat 型号比较

* 带有40m³旋转泵选项
** 典型的，与局部减振措施相结合

显微低温恒温器的应用

紫外-可见光谱

紫外-可见光谱或UV/VIS指的是在紫外到可见波段的吸收和反射谱研究。

Microstat 系统均可提供各类窗口材料来适应特定的光谱范围，包括用于紫外-可见波段的SpectrosilB/WF窗口。

磁光克尔效应

磁光克尔效应可以用来研究材料的磁化结构

使用带有一个窄的矩形尾装样品架的Microstat He型号，样品可以被插入到电磁铁的磁极中间，同时不影响对样品的光学分析。

显微拉曼光谱

拉曼散射或拉曼效应是指分子被激发到更高的震动或者转动能级过后产生的光子的非弹性散射。

使用Microstat系列低温恒温器，可以测试真空环境下样品的原位变温显微拉曼光谱。全系列均配置顶部和底部光学窗口，既适合Epi落射和透射显微拉曼光谱的配置。

显微光致发光

显微光致发光或显微PL光谱是分析微纳结构光学及电子学特性的一种有力的工具。

Microstat全系列均可用做低温显微PL Mapping以及显微TCSPC Mapping（FLIM）的样品载具，在较大温度跨度内分析半导体材料的微区结构同时又具备亚微米级别空间分辨率。

显微傅里叶变换红外光谱

傅里叶变换红外光谱广泛用于高分子材料，无机化学材料，药物和制药相关的研究，在固态和半导体物理领域也有很多应用案例。

讲Microstat系列低温恒温器与显微傅里叶变换红外光谱仪进行集成，可进行较大宽温跨度的光谱Mapping，揭示样品的局部信息。窗口可根据红外的波段范围有针对性地更换为相应的高透过率材料。

荧光光谱

荧光光谱，一种分析样品发出的荧光光谱的方法，可将样品置于Microstat系列低温恒温器内进行温度vs光谱的变温研究。

无论是液氮还是液氦制冷的低温恒温器都具备很短的样品至物镜的工作距离

Mercury智能温控器

牛津仪器的Mercury iTC智能温控器是为低温样品环境特别设计的。可编程软件和可扩展硬件的特性，使得Mercury iTC可配置成同时控制和监控多个传感器，加热器，步进马达和压力阀的状态。是专门为Andor的各类低温恒温室量身定做的可调整配置的控制器。

特性

触摸屏界面
0.1mK超高温控精度（24bit 模数转换下的分辨率）
加热器输出可达80W每通道，可进行更快速的升温
支持所有标准的低温传感器
独特的升级可能性—可扩展传感器，加热器和控制卡位
即插即用的性能升级和功能扩展

Optistat系列低温恒温器窗口选项

Andor提供Spectrosil B光学窗口作为低温恒温器的标配，该窗口从紫外到中红外都有良好的透过率

此外，我们还提供一系列其他光学窗口材料，来适应从紫外到远红外甚至太赫兹波段的应用

所有窗口都是使用者可更换的，这能让使用者能够根据实验的具体要求来配置各个光学端口，以达到特定波段内的最佳透过率

极小化振动和样品漂移的设计

为了极小化特定温度下的样品振动和漂移，我们专门设计了MicrostatHiRes（高分辨率）低温恒温器。为了实现这一目的，我们将样品置于安装有同轴热交换器的一个稳定冷台上，而不是使用传统的需要增加毛细管的指型冷冻器。
振动指标是利用牛津仪器奈米分析部门英国本部的Leo 1450VP扫描电镜来测试的。结果显示，如果低温恒温器各部件被固定牢的情况下，记录到的振动水平小于20nm

型号	MicrostatN	MicrostatHe	MicrostatHiRes
冷冻剂	Nitrogen	Helium (or Nitrogen)	Helium (or Nitrogen)
样品环境	Vacuum	Vacuum	Vacuum
基础温度	77K	3.2K	3.4K
最低温度	77K	2.2K*	2.7K*
最高温度	500K	500K	500K
温度稳定性(周期)	+-0.5K (10 Mins)	+-0.1K (10 Mins)	+-0.1K (10 Mins)
样品空间直径×高度(mm)	20 x 2	20 x 5	20 x 5
工作距离 (mm)	2	4.5 – 5.5	2.2 – 2.7
从室温冷却	<10 Min	<10 Min	<15 Min
低温消耗(L/HR) ~ 4.2K (80K for LN2)	<0.5 L/Hr	<0.45 L/Hr	<0.7 L/Hr
抖动	<0.1 μm	<0.1 μm	<20 nm
恒温横向样品漂移	<1 μm/hr	<1 μm/hr	<150 nm/hr
Customer Wiring	4 dc	10 dc	10 dc
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